Сотрудники лаборатории «РНФ-19-88» Института физики Казанского федерального университета представили на XXXII Крымской осенней математической школе-симпозиуме, проходящей  с 17 по 26 сентября в поселке Сатера, свою разработку – математическую модель процессов в высокочастотной плазменной установке пониженного давления.

Организаторами научного мероприятия, объединившего более 150 исследователей из России и зарубежья, являются Крымский федеральный университет имени В.И. Вернадского и Росcийский университет дружбы народов. Среди участников конференции – известные математики: член-корреспондент РАН профессор МГУ А. Шкаликов, ведущий научный сотрудник Лаборатории статистических методов ПОМИ РАН Н. Смородина, директор Математического института им. С.М. Никольского РУДН А. Скубачевский, профессор СПбГУ Т. Суслина, профессора НИУ ВШЭ В. Гринес и О. Починка, декан факультета математики и информатики Крымского федерального университета М. Муратов и другие.

Работа конференции, посвященной памяти основателя математической научной школы Крыма Н. Копачевского, ведется по семи секциям.

В секции «Математическое моделирование, численный анализ и приближенные методы» свои научные результаты озвучили сотрудники лаборатории. С докладом «Математические модели высокочастотной плазмы при пониженных давлениях» выступил ведущий научный сотрудник, профессор В. Желтухин, с докладом «Математическое моделирование ВЧ-плазмы пониженного давления для цилиндрической вакуумной камеры с заряженным образцом» – старший научный сотрудник, доцент А. Шемахин, а инженеры  Е. Самсонова и Т. Терентьев презентовали совместную работу «Самосогласованная одномерная модель индукционно-связанного высокочастотного разряда пониженного давления».

«В наших докладах излагаются результаты работы по проекту РНФ "Численное и экспериментальное исследование высокочастотной плазмы пониженного давления для модификации поверхностей функциональных материалов". Коллективом проекта разработана математическая модель процессов в высокочастотной плазменной установке пониженного давления, которая конструируется из нескольких частей в соответствии с геометрией установки генерации низкотемпературной плазмы. Первая часть модели относится к разрядной камере, в которой действует, по оценкам длин свободных пробегов, приближение сплошной среды. Вторая часть модели – к вакуумной камере, в которой происходит течение плазмы и обтекание ею материала; эта модель является нелокальной и гибридной. Третья часть модели относится к слою положительного заряда, в котором происходит ускорение ионов несущего газа, воздействующих на образец. Четвертая часть модели относится к процессам обработки и модификации материала в вакуумной камере и является молекулярно-динамической моделью», – рассказал Александр Шемахин.

Разработанная в КФУ объединенная математическая модель связывает все части индукционной высокочастотной плазменной установки и позволяет определять математическими методами оптимальные параметры обработки образцов различной физической природы.